Εγκατάσταση καθαρισμού και διυλιστηρίου αερίου φούρνου οπτάνθρακα

page_culture

Το αέριο φούρνου οπτάνθρακα περιέχει πίσσα, ναφθαλίνη, βενζόλιο, ανόργανο θείο, οργανικό θείο και άλλες ακαθαρσίες.Προκειμένου να αξιοποιηθεί πλήρως το αέριο φούρνου οπτάνθρακα, να καθαριστεί το αέριο φούρνου οπτάνθρακα, να μειωθεί η περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες στο αέριο φούρνου οπτάνθρακα, η εκπομπή καυσίμου μπορεί να καλύψει τις απαιτήσεις προστασίας του περιβάλλοντος και μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως χημική παραγωγή.Η τεχνολογία είναι ώριμη και χρησιμοποιείται ευρέως στη χημική βιομηχανία ηλεκτροπαραγωγής και άνθρακα.

111

Επιπλέον, τα υποπροϊόντα και τα υπολείμματα που δημιουργούνται κατά τη διαδικασία καθαρισμού μπορούν επίσης να είναι πολύτιμοι πόροι.Για παράδειγμα, οι ενώσεις θείου μπορούν να μετατραπούν σε στοιχειακό θείο, το οποίο έχει διάφορες βιομηχανικές εφαρμογές.Η πίσσα και το βενζόλιο μπορούν να χρησιμοποιηθούν ως πρώτες ύλες για την παραγωγή χημικών ουσιών, καυσίμων ή άλλων προϊόντων προστιθέμενης αξίας.

Συνοπτικά, το εργοστάσιο καθαρισμού και διύλισης αερίου φούρνου οπτάνθρακα είναι μια βασική εγκατάσταση που διασφαλίζει την αποτελεσματική χρήση και την περιβαλλοντική βιωσιμότητα του αερίου φούρνου οπτάνθρακα.Μέσω μιας αυστηρής διαδικασίας καθαρισμού, το εργοστάσιο αφαιρεί ακαθαρσίες από το αέριο, επιτρέποντάς του να χρησιμοποιηθεί ως καθαρή και αξιόπιστη πηγή ενέργειας.Επιπλέον, τα υποπροϊόντα που παράγονται κατά τη διαδικασία έχουν τη δυνατότητα περαιτέρω αξιοποίησης, καθιστώντας το εργοστάσιο πολύτιμο συστατικό των προσπαθειών βιωσιμότητας της βιομηχανίας χάλυβα.

Τεχνικά χαρακτηριστικά

● Προηγμένη τεχνολογία
● Θεραπεία μεγάλης κλίμακας
● Υψηλός καθαρισμός

Τεχνική Διαδικασία

Το καθαρισμένο αέριο παρασκευάζεται από αέριο φούρνου οπτάνθρακα μετά από αφαίρεση πίσσας, αφαίρεση ναφθαλίνης, αφαίρεση βενζολίου, αποθείωση με ατμοσφαιρική πίεση (πίεση) και λεπτή αποθείωση.

 

Τεχνολογικά Χαρακτηριστικά

Μέγεθος φυτού

1000~460000 Nm3/h

Περιεκτικότητα σε ναφθαλίνη

≤ 1 mg/Nm3

Περιεκτικότητα σε πίσσα

≤ 1 mg/Nm3

Περιεκτικότητα σε θείο

≤ 0,1 mg/Nm3

Πίνακας εισαγωγής τεχνολογίας

Κατάσταση πρώτης ύλης

Απαίτηση προϊόντος

Τεχνική Απαίτηση